Four sans oxygène haute température- fournisseurs mondiaux

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Four sans oxygène haute température

Le four anaérobie haute performance est capable de traiter thermiquement jusqu'à 500 ° C dans une atmosphère avec une concentration d'oxygène aussi fa

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Détails du produit

I. Aperçu de l'équipement

Le four anaérobie haute performance est capable de traiter thermiquement jusqu'à 500 ° C dans une atmosphère avec une concentration d'oxygène aussi faible que 500 ppm. Cela rend cette gamme idéale pour le dégraissage MLCC et LTCC, ainsi que pour tous les types de traitements thermiques antioxydants. Le four sans oxygène haute température utilise une structure de chambre et une technologie d'étanchéité exclusives pour une excellente étanchéité à l'air et une uniformité de température, tout en assurant une stabilité et une reproductibilité accrues. L'utilisation simultanée d'un mécanisme de refroidissement externe circulant par de l'eau de refroidissement permet un refroidissement rapide sans affecter l'atmosphère à l'intérieur du four, ce qui réduit le temps de traitement.

II. Champ d'application

Convient pour le durcissement de plaquettes semi - conductrices (photolithographie Pi, polymérisation PBO), l'encapsulation IC (substrat de cuivre, colle d'argent, gel de silice, époxy), la cuisson de substrats en verre, le traitement de recuit de haute précision, etc.

Gamme d'applications	Objectif de chauffage	Objets chauffés
Composants électroniques	Dégraissage (frittage adhésif), durcissement	Matériaux / plaques céramiques, MLCC (condensateur céramique multicouche), LTCC (Céramique Co - calcinée à basse température), capteur O2 en céramique, noyau en ferrite, FPC (circuit imprimé flexible), filtre de bruit de mode commun, thermistance
Matières premières de précision	Dégraissage, durcissement, recuit, frittage, séchage	Wafer, plaquette de silicium, céramique en carbure de silicium, ventouse électrostatique, Nitrure d'aluminium, Lentille optique, substrat flexible, batterie rechargeable, matériau d'électrode, faisceau de câbles (fil de cuivre), catalyseur, forge

Iii. Paramètres du produit

Modèle	YH-OXY-500C	Gamme de stabilité de travail	Température normale - 500℃
Teneur limite en oxygène	À moins de 50 ppm	Mode de refroidissement	Refroidissement par eau
Dimensions
Dimensions de travail	H600 * W600 * D600mm
Le studio
Nombre de studios	Studio individuel, Studio pouvant être réparti sur 4 étages
Configuration interne	Configurer 4 étagères en acier inoxydable, plaque de maille en acier inoxydable enveloppée sur l'étagère, espacement des étagères réglable
Système de chauffage de transport d'air
Taux de chauffage	Vitesse de montée en température 8 - 10 ℃ / min, temps de température constante contrôlable
Taux de refroidissement	500 ℃ refroidissement à 100 ℃ ≤ 50 minutes (selon la température de l'eau de refroidissement est différente, le temps est différent)
Dispositif de remplissage d'azote	Contrôle automatique du processus de nitrogenèse pour s'assurer que le produit est chauffé dans un environnement sans oxygène ou à faible concentration d'oxygène, empêchant l'oxydation du produit
Appareils électriques
Dispositif de protection contre la surchauffe	Régulateur de température intelligent indépendant, coupe automatiquement la puissance de chauffage lorsque la température de détection réelle dépasse la valeur de réglage du protecteur de surchauffe, double effet de protection
Système de protection	L'équipement a la détection de phase manquante, l'auto - diagnostic, la protection de fuite d'électricité, la protection de surchauffe, la sauvegarde autonome des paramètres de situation soudaine, l'auto - diagnostic de capteur, la protection de surcharge, la protection de terre, la protection de surchauffe de ventilateur, le contrôle d'accès de batterie, la protection de réglage de retenue d'opérateur
Environnement d'utilisation	Conditions environnementales: entre la température 5 ~ 40 ℃: humidité ≤ 85% r.h 电源： AC380V, 50HZ Environnement d'utilisation: pas de vibrations intenses, pas d'influence de champ magnétique intense, pas de gaz corrosif, pas de poussière. Pression d'air 86 ~ 106ka Source d'azote: 0.8mpa, 100l / min Distance de surface de mur ≥ 500mm

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