Caractéristiques du produit:
1, le boîtier de la machine est traité avec la peinture de cuisson de la plaque laminée à froid, la vésicule interne est en acier inoxydable 316L; Les appareils de chauffage sont répartis uniformément autour de la paroi externe de la vésicule interne, sans accessoires électriques ni dispositifs inflammables et explosifs. Trempé, pare - balles double vitrage porte observer les objets à l'intérieur du studio en un coup d'œil.
2, ajustement de l'énergie de serrage de fermeture de porte de boîte, anneau de fermeture de porte en caoutchouc de silicone formé dans son ensemble pour assurer un vide élevé dans la boîte.
3, micro - ordinateur thermomètre de contrôle intelligent avec réglage, détermination de la température double affichage numérique et fonction d'auto - ajustement PID, contrôle de la température précis et fiable.
Le module PLC Mitsubishi japonais de système de contrôle d'écran tactile intelligent peut être utilisé par l'utilisateur pour changer le programme, la température, le degré de vide et chaque temps de programme selon différentes conditions de processus.
5, hmds gaz hermétiquement fermé aspiration automatique ajouter la conception, la performance d'étanchéité de la boîte à vide est bonne, assurez - vous que le gaz hmds n'a aucun problème de fuite externe.
6, l'ensemble du système est fabriqué avec des matériaux, aucun matériau de poussière de cheveux, applicable à l'environnement de purification de lithographie de classe 100.

Choisissez les accessoires:
Pompe à vide: marque allemande, pompe à huile à disque rotatif de série bipolaire "DC" de Laibao, vide extrême élevé, faible bruit et fonctionnement stable.
Tuyau de raccordement: soufflet en acier inoxydable, entièrement scellé pour connecter la pompe à vide au four.

Nécessité d'un système de prétraitement hmds:
Dans le processus de production de semi - conducteurs, la lithographie est un lien de processus important pour le transfert graphique de circuits intégrés, la qualité de l'encollage affecte directement la qualité de la lithographie, le processus d'encollage est également particulièrement important. La grande majorité de la colle photolithographique dans le processus de revêtement photolithographique est hydrophobe, tandis que les hydroxyles et les molécules d'eau résiduelles à la surface de la Feuille de silicium sont hydrophiles, ce qui entraîne une mauvaise adhérence de la colle photolithographique et de la Feuille de silicium, en particulier de la colle positive, lors du développement du liquide de développement envahira la jonction de la colle photolithographique et de la Feuille de silicium, facile à provoquer des bandes flottantes, de la colle flottante, etc., conduisant à l'échec du transfert graphique photolithographique, tandis que la corrosi L'agent viscosant hmds (hexaméthyldisilazane) peut très bien améliorer cet état. Après application du hmds sur la surface de la plaquette de silicium, le chauffage au four peut réagir pour produire un composé à base de Siloxane. Il transforme avec succès la surface de la plaquette de silicium d'hydrophile en hydrophobe, sa base hydrophobe se liant bien à la colle photolithographique jouant le rôle d'agent de couplage.

Principe du four à vide hmds:
Le système de prétraitement hmds par la température de fonctionnement du processus de prétraitement hmds du four, le temps de traitement, le temps de rétention pendant le traitement et d'autres paramètres peuvent être appliqués uniformément une couche de hmds sur la Feuille de silicium, la surface du substrat, réduisant l'angle de contact de la Feuille de silicium après Le traitement hmds, réduisant la quantité de colle photolithographique utilisée et améliorant l'adhésion de la colle photolithographique à la Feuille de silicium.

Flux de travail général du four à vide hmds:
Déterminez d'abord la température de fonctionnement du four. La procédure de prétraitement typique est la suivante: ouvrir la pompe à vide pour aspirer, à l'intérieur de la cavité pour atteindre un certain degré de vide élevé, après avoir commencé à charger de l'azote humain, après avoir rempli un certain degré de vide faible, effectuer à nouveau le processus de pompage, de remplissage d'azote, après avoir atteint le nombre de remplissage d'azote fixé, commencer à maintenir pendant un certain temps, de sorte que la Feuille de silicium est entièrement chauffée, réduire l'humidité de la surface de la Feuille de silicium. L'aspiration est alors recommencée, le gaz hmds est chargé et, après avoir atteint le temps de consigne, le remplissage du liquide hmds est arrêté et on passe à la phase de rétention pour que la plaquette de silicium réagisse suffisamment avec le hmds. Lorsque le temps de rétention défini est atteint, recommencez à aspirer. Remplissez d'azote pour terminer l'ensemble du processus de travail. Hmds avec la Feuille de silicium mécanisme de réaction comme dans la figure: d'abord chauffé à 100 ℃ - 200 ℃, enlever l'humidité de la surface de la Feuille de silicium, puis hmds réagit avec Oh de la surface, dans la Feuille de silicium pour générer de l'éther de silicium, éliminer la liaison hydrogène, de sorte que la surface polaire devient une surface non polaire. L'ensemble de la réaction se poursuit jusqu'à ce que l'inhibition stérique (le Groupe triméthylsilyle est plus grand) l'empêche de réagir davantage.

Évacuation des gaz d'échappement, etc.: l'excès de vapeur hmds (gaz d'échappement) sera extrait par une pompe à vide pour être évacué dans un tuyau de collecte des gaz d'échappement dédié. Un traitement spécial est nécessaire lorsqu'il n'y a pas de tuyaux de collecte des gaz d'échappement spéciaux.

Peinture de cuisson de plaque laminée à froid de boîtier